この活動では，ハード（現実空間）とソフト（仮想空間：データサイエンス）の両者を扱うことのできる電気電子エンジニア育成を目的としています。酸化物半導体は、表示デバイス（ディスプレイやスマートウォッチ、タッチパネルなど）の薄膜トランジスタのチャネル層として使用されています。ミスト化学気相成長法は、比較的簡単な装置構成で高品質な酸化物半導体結晶を成長させることができる成膜方法です。本年は、「ミスト化学気相成長法を用いた酸化物半導体薄膜の合成」をテーマとして活動に取り組み、半導体薄膜製造装置の仕組みから成膜プロセスと膜質評価を学ぶ予定です。これまで、ミスト化学気相成長法の原理を調査し、装置の部品選定や調達を行ってきました。大部分の部品が調達できたので、ミスト化学気相成長装置の構築を行っているところです(写真①)。今後は、ミスト化学気相成長装置を完成させ、実際に酸化物半導体薄膜を成長させる予定です。